分子線エピタキシー

分子線エピタキシー法を利用して、ナノメートル単位で膜厚を制御した半導体を作る。

次世代デバイスの開発には、分子線エピタキシーによる高品質な単結晶成長が欠かせない。

分子線エピタキシーの装置を維持するためには、常に超高真空状態を保つ必要がある。