スパッタ法

この半導体素子の製造プロセスには、薄膜を形成するためのスパッタ法が採用されている。

スパッタ法を用いることで、ターゲット材の組成を維持したまま均質な膜を成膜することが可能だ。

研究室で新しい電極材料の開発のために、スパッタ法の条件を細かく調整している。