フォトマスク
フォトマスク
名詞
標準
photomask
作例 · 標準
半導体の製造工程において、フォトマスクは非常に重要な役割を果たす。
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最新のフォトマスク技術は、より微細な回路パターンの形成を可能にした。
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研究室では、次世代のフォトマスク材料の開発が進められている。
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ウィキペディア
フォトマスク とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。
出典: フォトマスク — ウィキペディア / CC BY-SA 4.0